Microstructure- and composition-related characteristics of LaF3 thin films at 193 nm

NCU Institutional Repository > 研究中心 > 薄膜技術研究中心 > 期刊論文 > Item 987654321/35676

請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/35676

題名:	Microstructure- and composition-related characteristics of LaF3 thin films at 193 nm
作者:	Liu,Ming-Chung;Lee,Cheng-Chung;Kaneko,Masaaki;Nakahira,Kazuhide;Takano,Yuuichi
貢獻者:	薄膜技術研究中心
關鍵詞:	VACUUM ULTRAVIOLET;COATING MATERIALS;OPTICAL COATINGS;FLUORIDE FILMS;MGF2;EVAPORATION;DEPOSITION;BOAT
日期:	2006
上傳時間:	2010-07-07 15:47:42 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The characteristics of lanthanum fluoride (LaF3) thin films deposited with a resistive heating (RH) boat and by e-beam gun evaporation at different substrate temperatures have been studied. The characteristics of the deposited films, including optical pro
關聯:	OPTICAL ENGINEERING
顯示於類別:	[薄膜技術研究中心] 期刊論文

文件中的檔案:

檔案	描述	大小	格式	瀏覽次數
index.html		0Kb	HTML	711	檢視/開啟

在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

社群 sharing