超短超強雷射與近臨界密度電漿交互作用之研究;Research on Ultrashort Intense Laser Interaction with Near-Critical-Density Plasmas

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題名:	超短超強雷射與近臨界密度電漿交互作用之研究;Research on Ultrashort Intense Laser Interaction with Near-Critical-Density Plasmas
作者:	白植豪
貢獻者:	國立中央大學物理學系
關鍵詞:	強場雷射物理;超快雷射技術;高功率雷射;雷射電漿交互作用;雷射加速器;電漿非線性光學;High-field physics;Chirped-pulse amplification;Ultrafast optics;Laser plasma interaction;Laser plasma acceleration;Plasma nonlinear optics
日期:	2024-09-27
上傳時間:	2024-09-30 17:09:33 (UTC+8)
出版者:	國家科學及技術委員會(本會)
摘要:	在此計畫中，我們將以流體模擬設計高壓噴嘴，噴嘴所需氣體由超高壓的氣體鋼瓶經由增壓器產生1000倍大氣壓提供。結合雷射游離技術，我們將實現可程式控制近鄰界密度氣體靶的研發，可線上控制靶的厚度與斜坡。這項技術將用於雷射質子加速器及相關近臨界雷射電漿的實驗研究。預期幫助我們了解交互作用的物理，並優化雷射質子加速器的品質。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[物理學系] 研究計畫

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