一種應用於大面積二維投影檢測系統的光源模組設計與驗證

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題名:	一種應用於大面積二維投影檢測系統的光源模組設計與驗證
作者:	龍怡璇;Lung,I-Hsuan
貢獻者:	光機電工程研究所
關鍵詞:	二維尺寸測量系統;平行光光源模組;柱狀透鏡陣列;照度均勻度;2D optical measuring system;collimation;uniformity;large area
日期:	2014-08-14
上傳時間:	2014-10-15 14:42:25 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學
摘要:	本論文主要在設計一種可以應用於大面積範圍的投影式二維尺寸測量系統的光源模組，並實際組裝與量測驗證。一個高精度的二維投影檢測系統的光源一般必須具有良好的照明均勻度與準直性，如果照明不均勻或光線的準直度差，將會影響後續的影像辨識精度；另外工作面積越大，表示能夠量測之待測物尺寸越大，意謂具有更大應用範圍。因此本研究針對此需求，考慮兩種類型的光源不同特性的光源：發散型白光LED光源和方向型雷射光源，研究在大工作面積範圍內具有高準直度、高均勻度的光源模組設計技術。設計開發目標為：應用之工作面積在光源模組後距離100mm到300mm之間區域面積70mm×70mm內，達光束發散角度的半高寬 2.00度，照度均勻度70.0%。當使用白光LED做為光源時，模擬結果為發光強度半高寬1.23度、照度均勻度78.8%；實作量測結果為發光強度半高寬0.77度、照度均勻度78.1%。當使用綠光雷射時，必須考慮擴束技術，本論文使用雙柱狀透鏡陣列方式進行光源擴束，模擬結果為發光強度半高寬0.39度、照度均勻度71.0%；實測結果為發光強度半高寬0.28度、照度均勻度 69.6%。根據結果顯示本研究成功建立一種可以應用於大面積範圍的投影式二維尺寸測量系統光源模組設計技術。 ;In this thesis, the optical module of 2D image measurement system with high light collimation, high illumination uniformity, and large illuminate area is designed and verified. For two kinds of light sources: light-emitting diode (LED) and LASER, the research targets are taken as: the operating range in the distance 100mm~300mm , operating area 70mm×70mm , half of the full-width half-maximum (FWHM) angle  2.00, and the illumination uniformity70.0%. For the case of LED light source, the results of simulation and experiment are full-width half-maximum (FWHM) angle 1.23°、illumination uniformity 78.8% and full-width half-maximum (FWHM) angle  0.77°、illumination uniformity 78.1%. For the case of LASER light source, the result of simulation is full-width half-maximum (FWHM) angle  0.39°、illumination uniformity 71.0% ,while the result of experiment is full-width half-maximum angle (FWHM)  0.28°、illumination uniformity  69.6% when the operating range in the distance 100mm~300mm is 70mm×70mm, respectively. In sum, it can be realized that the result achieves the expected design.
顯示於類別:	[光機電工程研究所 ] 博碩士論文

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