Developing new manufacturing methods for the improvement of AlF3 thin films

NCU Institutional Repository > 研究中心 > 薄膜技術研究中心 > 期刊論文 > Item 987654321/35650

請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/35650

題名:	Developing new manufacturing methods for the improvement of AlF3 thin films
作者:	Lee,Cheng-Chung;Liao,Bo-Huei;Liu,Ming-Chung
貢獻者:	薄膜技術研究中心
關鍵詞:	MICROSTRUCTURE-RELATED PROPERTIES;FLUORIDE FILMS;193 NM;OPTICAL COATINGS;ULTRAVIOLET;LITHOGRAPHY;EVAPORATION;PLASMAS;BOAT
日期:	2008
上傳時間:	2010-07-07 15:47:03 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	In this research, the plasma etching mechanism which is applied to deposit AlF3 thin films has been discussed in detail. Different ratios of O-2 gas were injected in the sputtering process and then the optical properties and microstructure of the thin fil
關聯:	OPTICS EXPRESS
顯示於類別:	[薄膜技術研究中心] 期刊論文

文件中的檔案:

檔案	描述	大小	格式	瀏覽次數
index.html		0Kb	HTML	1331	檢視/開啟

在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

社群 sharing